해외 기업으로 이직하기 위해 반도체 핵심 기술을 유출한 전직 삼성전자 연구원에게 징역형 집행유예 처벌이 내려졌다.

서울중앙지법 형사합의23부(부장판사 오세용)는 21일 산업기술의유출방지및보호에관한법률위반등 혐의로 기소된 이모씨(52)에게 징역 3년에 집행유예 4년 및 벌금 2000만원을 선고했다.

재판부는 "삼성전자에서 12년간 D램 연구 개발 업무를 한 전문성과 경력으로 미뤄 해당 기술이 국가핵심기술에 포함된다는 것을 식별할 능력이 피고인에게 있었다"며 "자료가 유출되면 삼성전자에 중대한 피해가 발생할 것을 충분히 예상할 수 있었다"고 말했다.

그러면서 "피고인이 유출한 자료가 외부에 유출되지는 않았다"면서도 "삼성전자가 다년간 연구 개발한 성과물을 피고인이 이직 과정에서 개인 이메일로 몰래 유출한 점, 3개월간 반복적으로 유출한 점, 유출이 적발된 때로부터 법정에 이르기까지 범행을 부인하며 반성하는 것으로 보이지 않는 점, 삼성전자가 엄벌을 탄원하는 점 등을 고려했다"고 양형 이유를 설명했다.

이씨는 2022년 3월부터 6월까지 외국 반도체 업체에 이직할 목적으로 D램 반도체 적층조립기술 등 국가핵심기술과 영업비밀을 개인 이메일로 전송해 유출한 혐의를 받는다.

이 씨가 유출한 자료에는 'D램 반도체 적층조립기술' 등 국가핵심기술 13건과 'D램 반도체 사업화 전략 자료' 등 영업비밀 100여 건이 포함된 것으로 조사됐다.

이 사건은 국가정보원이 지난해 3월 처음 기술유출 혐의를 인지해 검찰에 이첩하며 수사가 이뤄진 것으로 알려졌다.